NWO-I

NWO - Nederlandse Organisatie voor Wetenschappelijk Onderzoek - print-logo

URL voor deze pagina :
https://www.nwo-i.nl/fom-historie/jaarverslagen/hoogtepunten/hoogtepunten2013/ultradunne-antireflectiecoating-voor-ultraviolet-licht-nr-i23/

Geprint op :
14 december 2018
12:08:54

In diverse optische apparaten, zoals bijvoorbeeld telescopen, is het nodig licht met een specifieke golflengte te onderdrukken. Andere golflengtes moeten juist ongehinderd door een lens gaan of op een spiegel reflecteren. Om dit te realiseren bevatten deze apparaten vaak een antireflectiecoating (ARC).

Dunner dan licht
ARC's bestaan uit één of meerdere lagen. Wanneer de lagen van materialen zijn gemaakt die veel licht kunnen absorberen, kunnen ARC's extreem dun zijn. De dikte van de ARC kan zelfs vele malen kleiner zijn dan de golflengte van het licht dat ze onderdrukken. De onderzoekers van dit Industrial Partnership Programme ontwikkelden een ARC die ultraviolet licht (100-400 nanometer) onderdrukt, terwijl hij zo dun is dat hij extreem-ultravioletlicht (13 nanometer) ongehinderd doorlaat. Zij maakten de ARC voor spiegels die worden gebruikt bij  extreem-ultravioletlithografie, een geavanceerd optisch proces dat kleine structuren afbeeldt op lichtgevoelig materiaal. Deze structuren zijn de bouwstenen van de complexe geïntegreerde schakelingen waarvan moderne computerchips zijn gemaakt. 

De brekingsindex in het UV-gebied is sterk afhankelijk van de gebruikte materialen en de specifieke omgeving van de atomen in deze materialen (zoals structuur, dichtheid en moleculaire samenstelling). Bovendien blijken de eigenschappen kritisch af te hangen van de mengvorm van de diverse materialen in de ARC. Daardoor is het ontwikkelen van een ARC voor het UV-gebied geen eenvoudige opgave. De onderzoekers hebben numeriek bepaald welke laagdiktes en optische constantes optimaal zijn. Met deze informatie is het hen vervolgens gelukt een ARC te maken van silicium, koolstof en stikstof. Belangrijk is dat de reflectie van extreem-ultravioletlicht grotendeels behouden is. Dat is gelukt: de lithografie heeft er dus een nieuw optisch element bij.