Print deze pagina

Marcelo Ackermann benoemd tot nieuwe directeur ARCNL

Prof. dr. Marcelo Ackermann start in november als directeur van ARCNL, het Advanced Research Center for Nanolithography in Amsterdam. Hij neemt de leiding over van dr. Wim van der Zande. Ackermann heeft meer dan 20 jaar ervaring in academisch, industrieel en contractonderzoek in toegepaste natuurkunde en een bewezen staat van dienst in zowel de academische wereld als het bedrijfsleven.

Prof. dr. Marcelo Ackermann is momenteel hoogleraar aan de faculteit Science and Technology van de University of Twente en voorzitter van de Industry Focus Group X-ray and EUV Optics (XUV). Dit najaar maakt hij de overstap naar ARCNL, waar hij zich onder meer gaat richten op het versterken van de samenwerking tussen academisch onderzoek en de industrie, met speciale aandacht voor grote toeleveranciers van EUV-technologie.

Autoriteit in toegepaste natuurkunde

Na zijn studie natuurkunde in Leiden, promoveerde Ackermann cum laude bij Universiteit Leiden en ESRF (European Synchrotron Radiation Facility) in Grenoble. Zijn onderzoek ‘Operando SXRD: a new view on catalysis’ richtte zich op nieuwe methoden voor heterogene katalyse. Hiermee legde hij de basis voor zijn verdere loopbaan. Inmiddels heeft Ackermann op onderzoeksgebied een ruime staat van dienst opgebouwd, met onder meer 63 peer-reviewed journal publicaties en 5 patenten op zijn naam.

Publiek-private samenwerking

Bij de University of Twente is Ackermann wetenschappelijk en organisatorisch verantwoordelijk voor de XUV Optics Group. Het bijbehorende budget is voor circa 70% afkomstig uit publiek-private samenwerkingen en direct gefinancierd contractonderzoek. In deze rol heeft Ackermann dan ook veel ervaring opgedaan in het ontwikkelen van samenwerkingsverbanden met industriële partners als ASML, Zeiss en Panalytical. Ook leidt hij een groot aantal onderzoeksprojecten, gefinancierd door de EU, NWO en TKI HTSM, en coördineert hij nationale programma’s voor publiek-private samenwerking op het gebied van halfgeleiderapparatuur.

 Ackermann: “Ik richt mij op samenwerking tussen academici en industrie, en werk intensief samen met grote toeleveranciers van EUV-technologie. Dit type samenwerking wil ik graag voortzetten bij ARCNL.”

“ARCNL is een uniek samenwerkingsverband tussen NWO, verschillende universiteiten en de industriële partner ASML“, vertelt NWO-voorzitter Marcel Levi. “Het samenbrengen van fundamentele wetenschap op topniveau met de interessegebieden van een industriële partner heeft hele waardevolle resultaten opgeleverd. Marcelo’s ervaring met publiek-private samenwerkingen sluit dan ook perfect aan bij de ambitie van ARCNL om de samenwerking met industriële partners verder te ontwikkelen en verbreden.”

Ervaring bij topspelers in bedrijfsleven

Ook Ackermann’s eerdere ervaring, voor zijn benoeming tot hoogleraar, is uiterst waardevol voor ARCNL. Zo was hij in de periode 2018-2020 Group Leader EUV Source Laser bij ASML, de industriële samenwerkingspartner van ARCNL. Bij ASML was hij verantwoordelijk voor de volledige optische keten van de CO₂-bronlaser tot aan het EUV-plasma en de tin-druppels voor alle EUV-lithografieplatforms.

 Bij McKinsey & Company adviseerde Ackermann klanten over hoe zij de time-to-market van R&D-projecten konden verkorten en de efficiëntie vergroten. Zo realiseerde hij projecten waarbij R&D-afdelingen het dubbele aantal projecten konden uitvoeren met hetzelfde aantal fte en budget.

Ackermann: “Mijn grote passie ligt bij het complexe traject dat innovatie aflegt: van fundamenteel academisch onderzoek met een lage TRL (red: Technology Readiness Level), tot het grootschalige ontwikkeltraject dat nodig is om innovaties te realiseren die leiden tot concrete toepassingen in complexe hightech apparatuur.”

“Deze passie van Marcelo raakt de kern van ARCNL”, vertelt Instituutsmanager Marjan Fretz: “fundamenteel onderzoek dat nauw verbonden is met de interessegebieden van industriële partners. Ik ben ervan overtuigd dat Marcelo’s ervaring enorm gaat helpen om de samenwerking tussen onze onderzoekers en industriële partners verder uit te bouwen.”

Confidental Infomation