ARCNL

Onderzoek

ARCNL doet fundamenteel onderzoek op het gebied van natuurkunde en scheikunde. De inspiratiebron is de halfgeleiderindustrie, met name de veelbelovende EUV-lithografietechniek die wordt gebruikt in de nieuwste lithografieapparatuur. Het doel is om de betrokken processen te begrijpen en te beheersen, wat vaak betekent dat onderzoekers zich moeten verdiepen in de atomaire schaal en nog kleiner. Binnen het onderzoeksprogramma van ARCNL weerspiegelen drie thematische afdelingen de directe afstemming met de afdelingen Research en Development & Engineering bij ASML: Source, Metrology, en Materials.

Source

Extreem ultraviolet (EUV) licht wordt gebruikt voor de productie van chips. Dit licht wordt gegenereerd door laserpulsen op minuscule tin-druppeltjes te richten, waardoor elk druppeltje verandert in een heet en dicht plasma. De afdeling Source onderzoekt alle aspecten van dit proces, waaronder bijvoorbeeld plasma- en vloeistofdynamica en de modellering daarvan, de fysica van CO₂-lasers, ionische interacties en de atomaire oorsprong van EUV-licht.

Metrology

In het lithografieproces zijn nauwkeurige inspectie en positionering van structuren op nanometerschaal essentieel. De afdeling Metrology richt zich op de ontwikkeling van nieuwe beeldvormings- en metrologietechnieken voor het detecteren van markeringen die onder ondoorzichtige lagen zijn begraven en voor gedetailleerde visualisatie van nanostructuren. Dit omvat lensloze en computationele beeldvorming, coherente lichtbronnen die variëren van infrarood tot zachte röntgenstraling, en geavanceerde optische detectieschema's.

Materials

De prestatielimieten van materialen worden voortdurend op de proef gesteld in nieuwe lithografietechnologieën, waardoor inzicht in en controle over hun eigenschappen op atomair niveau vereist is. De afdeling Materials onderzoekt het gedrag van een breed scala aan materialen, met de nadruk op de eigenschappen van oppervlakken en grensvlakken, in de context van bijvoorbeeld EUV-optica, beschermende coatings en membranen en contactverschijnselen, zoals wrijving en slijtage op nanoschaal.