NWO-instituut ARCNL: Advanced Research Center for Nanolithography
ARCNL is een publiek-private samenwerking tussen NWO, UvA, VU en het bedrijf ASML. Het vormt een nieuw type organisatieonderdeel binnen NWO dat het beste van twee werelden combineert: de wetenschappelijke kracht van NWO en haar universitaire partners met de toepassingsgerichte vraagsturing van een private partij.
ARCNL's missie
ARCNL richt zich op de fundamentele fysica en chemie achter de huidige en toekomstige technologie voor nanolithografie, in het bijzonder voor toepassing in de halfgeleiderindustrie. Het wetenschappelijk programma van ARCNL is nauw verbonden met de interessegebieden van ASML. Een groot deel van dit programma is gericht op de fysische en chemische processen die cruciaal zijn voor nanolithografie met extreem ultraviolet (EUV) licht. Het onderzoek van ARCNL is gebundeld in drie afdelingen:
- Source: fysica achter het genereren van EUV licht.
- Metrology: nieuwe principes voor het maken van nauwkeurige afbeeldingen en precisiemetingen.
- Materials: materiaalfysica voor toepassing in lithografie-instrumentatie.
ARCNL neemt internationaal een toppositie in bij het onderzoek op deze drie terreinen.
ARCNL is formeel gestart op 1 januari 2014 en vormt sinds 1 september 2015 een zelfstandig organisatieonderdeel binnen NWO-I. ARCNL maakt gebruik van administratieve en technische ondersteuning van het naastgelegen instituut AMOLF.
Locatie
Amsterdam
Directeur ARCNL
Prof.dr. Marcelo Ackermann