Eenvoudig model bepaalt complex plasmagedrag

Eigenschappen van ionen uit plasma

In een reeks experimenten bestudeerden de onderzoekers de eigenschappen van de ionen die uit het plasma ontsnapten. Ze varieerden alle mogelijke parameters in hun opstelling. Groepsleider John Sheil vertelt: “Tot onze grote verrassing bleek de gemiddelde ladingstoestand van de gedetecteerde ionen altijd te schalen met hun kinetische energie tot de macht 0,4. Het was een toevallige ontdekking”, zegt Sheil. “En het heeft ons jaren en eindeloze discussies gekost om het te kunnen verklaren.”

Computerchipmachines

De meest geavanceerde computerchipmachines van ASML maken gebruik van plasma voor het genereren van extreem ultraviolet (EUV) licht. Kennis over de eigenschappen van de snel bewegende plasma-ionen draagt bij aan het goed functioneren van de computerchip machine.