NWO-I

Institutenorganisatie van NWO

Afbeelding

Secure Analytics lab

NSCR beschikt over een speciaal ingerichte streng beveiligde werkomgeving voor onderzoek met bijzondere dataverzamelingen.

Afbeelding
AMOLF NanoLab onderzoekers. Fotografie door Ivar Pel

NanoLab

Cleanroom met faciliteiten voor (elektronen)microscopie, verschillende lithografiemethoden, plasma-etsen, materiaaldepositie en materiaalanalyse.

Afbeelding
De drie schepen van de nationale onderzoeksvloot van NIOZ varen naast elkaar in de Waddenzee

Nationale onderzoeksvloot

De vloot bestaat uit drie ultramoderne schepen met geavanceerd onderzoeksapparatuur aan boord.

Afbeelding
PLD4Energy: een faciliteit voor dunne-filmafzetting en -karakterisering

Magnum-PSI, Ion Beam & PLD4Energy

DIFFER bezit een aantal unieke onderzoeksfaciliteiten waarmee wetenschappers onderzoek kunnen doen naar materialen voor de energietransitie.

Afbeelding
Oranje rond onderdeel van de HFML-FELIX faciliteit

HFML-FELIX faciliteiten

Faciliteiten met enkele van de sterkste magneten ter wereld en vrije-elektronenlasers met een ongekend bereik in het infrarood.

Afbeelding
Prof. dr. Geoffrey Bower, per 1 september 2026 de nieuwe directeur van NWO-instituut ASTRON

Geoffrey Bower benoemd tot nieuwe directeur van ASTRON

Het bestuur van NWO-I heeft Prof. Dr. Geoffrey C. Bower benoemd tot de nieuwe directeur van ASTRON, het Nederlands Instituut voor Radioastronomie. Per 1 september 2026 zal Prof. Dr. Bower, Prof. Dr. Jessica Dempsey opvolgen.

Afbeelding
Prinses Amalia bezoekt onderzoekinstituut AMOLF. Op de foto staat zij samen met burgemeester Femke Halsema en onderzoeksleider Albert Polman in het SolarNL-lab op AMOLF.

Prinses van Oranje bezoekt AMOLF

Op donderdag 16 april bracht de prinses van Oranje een bezoek aan het Amsterdam Science Park, waaronder AMOLF.

Afbeelding
Stan Heijnen
Teaser title

Stan Heijnen

Teaser text

Stan Heijnen is instrumentmaker bij Nikhef.

Afbeelding
Jorn Veenendaal
Teaser title

Jorn Veenendaal

Teaser text

Jorn Veenendaal doet zijn PhD in exhaust control bij DIFFER